টাইটানিয়াম রডগুলির সারফেস ত্রুটিগুলি কীভাবে মোকাবেলা করতে হবে？

টাইটানিয়াম প্লেট এবং টাইটানিয়াম রডের পৃষ্ঠের বিক্রিয়া স্তরটি টাইটানিয়াম ওয়ার্কপিসগুলির শারীরিক এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্যগুলিকে প্রভাবিত করে এমন প্রধান কারণ। প্রক্রিয়াজাতকরণের আগে, পৃষ্ঠের দূষিত স্তর এবং ত্রুটিযুক্ত স্তরটি অবশ্যই সম্পূর্ণভাবে মুছে ফেলা উচিত। টাইটানিয়াম প্লেট এবং টাইটানিয়াম রড পৃষ্ঠ পোলিশিং প্রক্রিয়া শারীরিক এবং যান্ত্রিক মসৃণতা:

1. স্যান্ডব্লাস্টিং:

টাইটানিয়াম তারের ingsালাই সাধারণত স্যান্ডব্লাস্টিংয়ের জন্য সাদা কর্নডাম পছন্দ করে। স্যান্ডব্লাস্টিংয়ের চাপ অ-মূল্যবান ধাতুগুলির চেয়ে কম এবং এটি সাধারণত 0.45 এমপিএর নীচে নিয়ন্ত্রিত হয়। কারণ, যখন স্প্রে চাপ খুব বেশি থাকে, তখন বালির কণা টাইটানিয়াম পৃষ্ঠকে তীব্র স্পার্কস তৈরি করতে প্রভাবিত করে এবং তাপমাত্রা বৃদ্ধি টাইটানিয়াম পৃষ্ঠের সাথে প্রতিক্রিয়া করতে পারে গৌণ দূষণ তৈরি করে এবং পৃষ্ঠের গুণমানকে প্রভাবিত করে। সময়টি 15-30 সেকেন্ড, এবং কেবল stickালাইয়ের পৃষ্ঠের উপরের স্টিকি বালি, পৃষ্ঠতল সিন্ডার্ড স্তর এবং আংশিক অক্সাইড স্তরটি সরানো যেতে পারে। অবশিষ্ট পৃষ্ঠতল প্রতিক্রিয়া স্তর কাঠামো রাসায়নিক পিকিং দ্বারা দ্রুত অপসারণ করা উচিত।

২. পিকলিং:

পিকিং দ্রুত এবং সম্পূর্ণরূপে পৃষ্ঠের প্রতিক্রিয়া স্তরটি সরিয়ে ফেলতে পারে এবং পৃষ্ঠটি অন্যান্য উপাদান দ্বারা দূষিত হবে না। এইচএফ-এইচসিএল সিরিজ এবং এইচএফ-এইচএনও 3 সিরিজ পিকিং তরল উভয়ই টাইটানিয়াম বাছাইয়ের জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে, তবে এইচএফ-এইচসিএল সিরিজের পিকিং তরলগুলির বৃহত হাইড্রোজেন শোষণ ক্ষমতা রয়েছে, যখন এইচএফ-এইচএনও 3 সিরিজের পিকিং তরলগুলি হাইড্রোজেন শোষণ করে এবং এইচএনও 3 নিয়ন্ত্রণ করতে পারে এইচএনও 3 এর ঘনত্ব হাইড্রোজেন শোষণকে হ্রাস করে এবং পৃষ্ঠকে আলোকিত করতে পারে। সাধারণত, এইচএফের ঘনত্ব প্রায় 3% -5% এবং এইচএনও 3 এর ঘনত্ব প্রায় 15% -30% হয়।

টাইটানিয়াম প্লেট এবং টাইটানিয়াম রডের পৃষ্ঠের বিক্রিয়া স্তরটি স্যান্ডব্লাস্টিংয়ের পরে পিকিংয়ের পদ্ধতি দ্বারা সম্পূর্ণভাবে মুছে ফেলা যায়।

শারীরিক এবং যান্ত্রিক মসৃণতা ছাড়াও টাইটানিয়াম প্লেট এবং টাইটানিয়াম রডগুলির পৃষ্ঠের উপর দুটি ধরণের প্রতিক্রিয়া স্তর রয়েছে: 1. রাসায়নিক পোলিশিং এবং ২।একটি বৈদ্যুতিন পোলিশ করা।

1. রাসায়নিক পালিশ:

রাসায়নিক পোলিশ করার সময় কোনও রাসায়নিক মাধ্যমে ধাতব জারণ-হ্রাস প্রতিক্রিয়া মাধ্যমে সমতলকরণ এবং মসৃণকরণের উদ্দেশ্য অর্জন করা হয়। এর সুবিধা হ'ল রাসায়নিক পোলিশিংয়ের ধাতব, পোলিশিং অঞ্চল এবং কাঠামোর আকারের কঠোরতার সাথে কোনও সম্পর্ক নেই। পলিশিং তরলের সংস্পর্শে থাকা সমস্ত অংশগুলি পালিশ করা হয়, কোনও বিশেষ জটিল সরঞ্জামের প্রয়োজন হয় না, এবং অপারেশনটি সহজ। এটি জটিল কাঠামো টাইটানিয়াম ডেন্টার স্টেন্টগুলি পোলিশ করার জন্য আরও উপযুক্ত। যাইহোক, রাসায়নিক পোলিশিংয়ের প্রক্রিয়া পরামিতিগুলি নিয়ন্ত্রণ করা কঠিন, এবং এটি ডেন্টচারের যথার্থতাটিকে প্রভাবিত না করে ডেন্টারে একটি ভাল পোলিশিং প্রভাব ফেলতে হবে। এইচএফ এবং এইচএনও 3 এর একটি নির্দিষ্ট অনুপাতে একটি ভাল টাইটানিয়াম রাসায়নিক পলিশিং তরল প্রস্তুত করা হয়। এইচএফ হ্রাসকারী এজেন্ট, যা টাইটানিয়াম ধাতু দ্রবীভূত করতে পারে এবং এর স্তরকরণের প্রভাব ফেলতে পারে। ঘনত্ব 10% এরও কম। টাইটানিয়াম এবং হাইড্রোজেন শোষণের অত্যধিক দ্রবীভূততা রোধ করতে এইচএনও 3 এর একটি অক্সাইডাইজিং প্রভাব রয়েছে। , একই সাথে উজ্জ্বল প্রভাব উত্পাদন করতে পারে। টাইটানিয়াম পলিশ দ্রবণটির জন্য উচ্চ ঘনত্ব, কম তাপমাত্রা এবং স্বল্প পালিশ করার সময় প্রয়োজন (1 ～ 2 মিনিট)।

2. বৈদ্যুতিন পোষক:

একে ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল পলিশিং বা অ্যানোডিক ডিসলিউশন পলিশিংও বলা হয়। টাইটানিয়াম খাদ নলটির পরিবাহিতা কম থাকার কারণে, জারণ কার্য সম্পাদন খুব শক্তিশালী। এইচএফ-এইচ 3 পিও 4, এইচএফ-এইচ 2 এসও 4 ইলেক্ট্রোলাইট জলযুক্ত অ্যাসিড ইলেক্ট্রোলাইটের ব্যবহার টাইটানিয়ামকে কঠোরভাবে পোলিশ করতে পারে। বাহ্যিক ভোল্টেজের পরে, টাইটানিয়াম আনোডকে তাত্ক্ষণিকভাবে অক্সিডাইজ করা হয়, যার ফলে অ্যানোড দ্রবীভূত হওয়া অসম্ভব হয়ে পড়ে। যাইহোক, কম ভোল্টেজের অধীনে অ্যানহাইড্রস ক্লোরাইড ইলেক্ট্রোলাইটের ব্যবহার টাইটানিয়ামে ভাল পোলিশিং প্রভাব ফেলে। ছোট নমুনাগুলি আয়না পালিশ করা যেতে পারে, তবে জটিল পুনরুদ্ধারের জন্য, এখনও সম্পূর্ণ পলিশিং অর্জন সম্ভব নয়। হতে পারে আপনি ক্যাথোডের আকৃতি পরিবর্তন করতে এবং ক্যাথোড যুক্ত করতে পারেন এই সমস্যাটি সমাধান করতে পারে এমন পদ্ধতিটির আরও অধ্যয়ন প্রয়োজন।